CHINA Y UNA INGENIOSA FÁBRICA DE CHIPS
- Elizabeth Ferrari
- 6 nov 2023
- 2 Min. de lectura
Un novedoso principio físico permite hacer frente a las sanciones tecnológicas.
Hace años que EE. UU. intenta frenar el desarrollo tecnológico chino a partir de múltiples sanciones y bloqueos, como la prohibición a la famosa NVIDIA, principal fabricante de chips de Inteligencia Artificial, de vender a China sus productos más potentes. Sin embargo, lejos de apaciguar la inventiva, el Tío Sam ha logrado estimular aún más el ingenio mandarín.
Según un informe publicado en el South China Morning Post, principal periódico de Hong Kong y propiedad de Alibaba Group, el gobierno chino, junto a científicos e ingenieros de la Universidad de Tsinghua, busca un gran avance para lograr los chips semiconductores más pequeños del mundo, unos 7 nanómetros (¡A escala atómica!) a través de la aplicación de la física de haces de partículas.
El acelerador de partículas ya no es solo ese dispositivo de la física teórica que mantiene ocupado a Sheldon Cooper en The Big Bang Theory, sino que los científicos chinos han descubierto en este maravilloso artefacto una forma eficaz de producción de luz láser de “alta calidad” para la fabricación masiva de chips, que promete sustituir a la máquina litográfica y evitar la dependencia tecnológica con Occidente.
¿Pero cómo funciona?
Los investigadores de la Universidad de Tsinghua nombraron al nuevo método de litografía de chips como "micro-concentración en estado estacionario" (o SSMB, por sus siglas en inglés). Consiste en rodear la oblea del chip con material fotosensible y usar un haz de electrones para generar ondas de luz ultravioleta extrema (EUV), que sirven para grabar los "nodos" en el chip, como si fuese una especie de cámara fotográfica.
La EUV es una luz de longitud de onda extremadamente corta capaz de grabar chips con nodos de 7 nanómetros o incluso menos. La técnica puntera pertenece a la empresa neerlandesa ASML (Advanced Semiconductor Materials Lithography), denegada a China por las sanciones estadounidenses, que emplea pulsos láser para transformar gotas de estaño en plasma y así emitir luz EUV. Sin embargo, en el proceso se pierde demasiada energía, lo que resulta problemático para elaborar microchips de 3 y 5 nanómetros.
"Queda un largo camino por recorrer antes de que desarrollemos de forma independiente máquinas de litografía EUV, pero las fuentes de luz EUV basadas en el SSMB nos brindan una alternativa a la tecnología sancionada”, explica el Dr. Chuanxiang, profesor especializado en física de partículas y jefe del proyecto.
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